Описание
Художественный фильм с таким успехом Ghost Mask: Scar идеален для полудня разлуки.
Этот фильм был выпущен в 2018, и люди с нетерпением ждали этого дня.
Хотя персонаж отмечен сценарием, работа, которую актеры и актрисы этого фильма проделывают, чтобы оживить своих персонажей, прекрасна. В гипсе находим Yurika Akane, Yuha Lee, Sô Hirosawa, Sayuri Itô, Kim Jerok.
Как вы могли заметить, в создании фильма задействовано много людей, поэтому фигура необходима, чтобы координировать весь этот хаос и решать, когда никто точно не знает, что делать. Takeshi Sone был человеком, руководившим режиссурой всего фильма.
Продолжительность фильма 81 min..
Хотя снимать можно по всему миру, большая часть производства и съемочной группы принадлежит Korea (South).
Нам нравится, как Etsuo Hiratani и его команда сумели передать идею фильма через сценарий.
Ответственным за то, чтобы все фотографические элементы идеально сочетались друг с другом, был Takeshi Sone.
Возможно, большая часть успеха этого фильма состоит в том, что удалось раскрыть эту историю и эти сообщения из жанра Триллер, Интриги.